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三星台积电首次联手 为英伟达定制下一代HBM芯片
来源:官方媒体 网络新闻 | 作者:亚洲经济报 | 发布时间 :2026-10-19 | 24 次浏览: | 🔊 点击朗读正文 ❚❚ ▶ | 分享到:
2026年10月18日,据韩国《首尔经济日报》等多家行业媒体披露,三星电子将采用台积电的3纳米工艺,为英伟达的下一代定制高带宽内存(HBM)产品NVHBM生产核心基底芯片(Base Die)。这是三星首次与台积电在HBM制造核心环节展开深度合作,打破了此前三星在HBM领域全流程垂直整合的传统模式,引发全球半导体行业高度关注。


合作背后的核心逻辑


本次合作的核心驱动力来自英伟达对供应链一致性的极致要求。今年8月英伟达正式发布定制化HBM产品NVHBM,该产品将英伟达自研的内存控制器直接集成在基底芯片中,目标是让三星、SK海力士、美光三大存储供应商的产品,在英伟达AI GPU平台上实现完全无缝的性能表现。


为避免不同厂商基底芯片设计、制程差异带来的繁琐兼容性验证,英伟达向三家供应商统一提出硬性要求:NVHBM的基底芯片必须全部采用台积电3纳米工艺,核心DRAM芯片则统一锁定第六代1c制程,从根源上实现跨供应商产品的标准化对齐。三星经过内部权衡后最终接受该方案,核心目的是保住自身在英伟达高利润AI供应链中的核心席位。



三星的战略平衡布局


尽管在NVHBM项目上做出让步,三星并未放弃自身的核心技术优势标准HBM产品线仍维持全流程“交钥匙”模式,今年已实现全球首发量产的HBM4、正在验证的HBM4E产品,基底芯片全部采用三星自家4纳米工艺生产,核心DRAM芯片也完全出自三星华城、平泽的1c产线。面向AMD等其他客户的定制HBM需求,三星将继续保留从核心芯片到基底芯片全部自产的垂直整合模式。


三星同时启动内部技术验证,测试用自家2纳米工艺生产NVHBM基底芯片的可行性,为后续台积电3纳米产能触顶后预留产能备胎,应对未来爆发式增长的市场需求。


行业格局深远影响


这一合作标志着三星与台积电的关系从过去的全面竞争,转向在AI存储核心赛道的特殊协同模式。四年前双方曾在台积电CoWoS封装工艺上完成过配套合作,本次直接深入HBM核心制造环节的联手,在当前全球AI存储持续供不应求的大背景下,将进一步强化英伟达AI供应链的产能保障能力,也为全球半导体行业的竞合关系写下全新注脚。



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